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產品中心半導體電子設備硅片擴散超聲波清洗機LC硅片超聲波清洗機
產品簡介
硅片超聲波清洗機硅片擴散超聲波清洗機該設備用于晶圓片擴散、蒸發、CAV生產前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗
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硅片超聲波清洗機 概述：
該設備用于晶圓片擴散、蒸發、CAV生產前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設備水平，但價格、售后服務、備品備件的供給等是進口設備*的。
硅片超聲波清洗機 主要特點：
·采用進口PP板制作。
·適用2-6寸硅片清洗。
·超聲功率強勁，性能穩定。
·超聲波采用效率高發生器，功率可調。
·采用高頻超聲波頻率。
·慢拉脫水、循環熱風干燥方式，替換傳統的溶劑脫水，既安全又環保。
·設有循環過濾系統。
·多槽超聲波清洗工藝，保證清洗效果。
硅片超聲波清洗機 的超聲波強的洗凈作用，是以超過人類聽覺聲頻以上的波動在液體中傳導。當聲波在洗劑中傳播時，由于聲波是一種傳播，縱波推動介質的作用會使液體中壓力變化而產生無數微小真空泡，稱之為“空穴效應”。
當氣泡受氣壓爆破時，會產生強大的沖擊能，可將固著在物件死角內的污垢打散，并增強洗凈的洗凈效果，由于超聲波偏離高波長短，穿透力強，因此對有隱蔽細縫或復雜結構的清洗物，可以達到良好的洗凈效果。
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